 本书分晶体生长的理论基础、主要生长技术方法和生长技术在晶体材料中应用的三大部分。第一章系统阐述了晶体生长的主要理论基础。第二章系统介绍晶体生长的热力学基础, 即相图的基本理论基础和分类, 介绍了相图在晶体生长中应用, 并详细介绍了相图测定的技术方法。第三章至第五章介绍了从溶液中生长晶体的三种主要技术方法, 即水溶液晶体生长、助熔剂法晶体生长和水热法晶体生长, 详细介绍它们的晶体生长设备的结构设计、温场设计技术和原料配方设计等生长工艺技术等。第六章至第八章介绍了从熔体中生长晶体的主要三种方法, 即焰熔法、提 |
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